455199
Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV)
≥99.99%
Sinónimos:
TDMAH, Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV)
About This Item
Productos recomendados
Nivel de calidad
Ensayo
≥99.99%
Formulario
low-melting solid
idoneidad de la reacción
core: hafnium
mp
26-29 °C (lit.)
densidad
1.098 g/mL at 25 °C
cadena SMILES
CN(C)[Hf](N(C)C)(N(C)C)N(C)C
InChI
1S/4C2H6N.Hf/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4
Clave InChI
ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N
¿Está buscando productos similares? Visita Guía de comparación de productos
Categorías relacionadas
Descripción general
Aplicación
- As an atomic layer deposition(ALD) precursor for deposition of hafnium oxide thin films for advanced semiconductor devices.
- As a precursor to fabricate polymer-derived ceramic nanocomposites.
- To prepare HfO2, CeO2, and Ce-doped HfO2 thin films on Ge substrates by using tris(isopropyl-cyclopentadienyl)cerium [Ce(iPrCp)3] precursors with H2O via ALD method.
- To produce Hf3N4 thin films with TDMAH and ammonia at low substrate temperatures at 150−250 °C.
Nota de análisis
Para utilizar con
Palabra de señalización
Danger
Frases de peligro
Consejos de prudencia
Clasificaciones de peligro
Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 2
Riesgos supl.
Código de clase de almacenamiento
4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water
Clase de riesgo para el agua (WGK)
WGK 3
Equipo de protección personal
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
Elija entre una de las versiones más recientes:
¿Ya tiene este producto?
Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.
Los clientes también vieron
Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.
Póngase en contacto con el Servicio técnico