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419354

Sigma-Aldrich

p-Tolyltrichlorosilane

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About This Item

Formula condensata:
CH3C6H4SiCl3
Numero CAS:
701-35-9
Peso molecolare:
225.57
Numero CE:
211-854-0
Numero MDL:
MFCD00045131
Codice UNSPSC:
12352002
ID PubChem:
24866104
NACRES:
NA.22

Livello qualitativo

100

Saggio

95%

Stato

liquid

Indice di rifrazione

n20/D 1.5240 (lit.)

P. ebollizione

218-220 °C (lit.)

Densità

1.273 g/mL at 25 °C (lit.)

Stringa SMILE

Cc1ccc(cc1)[Si](Cl)(Cl)Cl

InChI

1S/C7H7Cl3Si/c1-6-2-4-7(5-3-6)11(8,9)10/h2-5H,1H3
WOMUGKOOLXQCTQ-UHFFFAOYSA-N

Applicazioni

Self-assembled monolayers (SAMs) of p-tolyltrichlorosilane (TTCS) were formed on flexible polymer substrates. p-Tolyltrichlorosilane copolymerized with methylphenyldichlorosilane was grafted on silicon to introduce a structural defect.

Pittogrammi

Corrosion
GHS05

Avvertenze

Danger

Indicazioni di pericolo

H314

Classi di pericolo

Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1B

Rischi supp

EUH014

Codice della classe di stoccaggio

8A - Combustible corrosive hazardous materials

Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)

WGK 3

Punto d’infiammabilità (°F)

210.2 °F - closed cup

Punto d’infiammabilità (°C)

99 °C - closed cup

Dispositivi di protezione individuale

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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Certificati d'analisi (COA)

Lot/Batch Number
MKBX7571V
05712DE
10829CD
02714CD
05903BD

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Fabrication of self-assembled monolayers (SAMs) and inorganic micropattern on flexible polymer substrate.
Langmuir, 20(8), 3278-3283 (2004)
Effects of structural defects on hole drift mobility in aryl-substituted polysilanes.
Philosophical Magazine Part B, 79(10), 1631-1645 (1999)
Ignazio Blanco et al.
Molecules (Basel, Switzerland), 25(13) (2020-07-02)
Novel polystyrene (PS)/polyhedral oligomeric silsequioxanes (POSSs) nanocomposites were designed and prepared by in situ polymerization, using, for the first time, three-cage POSS molecules. The synthesized compounds were first characterized by Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) and 1H NMR spectroscopy to

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