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Merck

759562

Sigma-Aldrich

Tris(dimethylamino)silan

packaged for use in deposition systems

Synonym(e):

Tris(dimethylamino)silan

Anmeldenzur Ansicht organisationsspezifischer und vertraglich vereinbarter Preise


About This Item

Lineare Formel:
((CH3)2N)3SiH
CAS-Nummer:
Molekulargewicht:
161.32
EG-Nummer:
MDL-Nummer:
UNSPSC-Code:
12352103
PubChem Substanz-ID:
NACRES:
NA.23

Qualitätsniveau

Assay

≥99.9% (GC)

Form

liquid

bp

142 °C (lit.)

mp (Schmelzpunkt)

−90 °C (lit.)

Dichte

0.838 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES String

CN(C)[SiH](N(C)C)N(C)C

InChI

1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3

InChIKey

TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N

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Allgemeine Beschreibung

Tris(dimethylamino)silane is an organosilicon compound with high volatility and thermal stability, widely used as a vapor deposition precursor to fabricate silicon-containing thin films for various applications, including solar cells, fuel cell catalysts, and semiconductors. The depositions can be carried out at low substrate temperatures (<150). The melting point and vapor pressure of TDMAS is in a suitable working range, thus making it a very good vapor deposition precursor.

Anwendung

Tris(dimethylamino)silane can be used:
  • As a silicon source for deposition of aluminum silicate on TiO2 anodes for dye-sensitized solar cells vis atomic layer deposition method.
  • As a precursor to fabricate functionalized Si reinforced separators for Li-ion batteries.

Signalwort

Danger

Gefahreneinstufungen

Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 2

Zusätzliche Gefahrenhinweise

Lagerklassenschlüssel

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

WGK

WGK 3

Flammpunkt (°F)

16.0 - 32.0 °F - closed cup

Flammpunkt (°C)

-8.89 - 0.00 °C - closed cup


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