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Sigma-Aldrich

Dichlorodiethylsilane

97%

Synonyme(s) :

Diethyldichlorosilane, Diethyldichlorosilicon

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About This Item

Formule linéaire :
(C2H5)2SiCl2
Numéro CAS:
1719-53-5
Poids moléculaire :
157.11
Numéro Beilstein :
605313
Numéro CE :
217-005-0
Numéro MDL:
MFCD00000493
Code UNSPSC :
12352001
ID de substance PubChem :
24856572
Nomenclature NACRES :
NA.22

Pureté

97%

Forme

liquid

Indice de réfraction

n20/D 1.43 (lit.)

Point d'ébullition

125-131 °C (lit.)

Densité

1.05 g/mL at 25 °C (lit.)

Température de stockage

2-8°C

Chaîne SMILES 

CC[Si](Cl)(Cl)CC

InChI

1S/C4H10Cl2Si/c1-3-7(5,6)4-2/h3-4H2,1-2H3

Clé InChI

BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N

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Pictogrammes

FlameCorrosionExclamation mark
GHS02,GHS05,GHS07

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H226,H302,H314,H335

Classification des risques

Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B - STOT SE 3

Organes cibles

Respiratory system

Risques supp

EUH014

Code de la classe de stockage

3 - Flammable liquids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 1

Point d'éclair (°F)

79.0 °F

Point d'éclair (°C)

26.1 °C

Équipement de protection individuelle

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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Certificats d'analyse (COA)

Lot/Batch Number
MKCQ3829
SHBJ6395
SHBD3497V
SHBB1443V
28496CK

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David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

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