767476
Copper
sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.95% trace metals basis
About This Item
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assay
99.95% trace metals basis
form
turnings
reaction suitability
core: copper
resistivity
1.673 μΩ-cm, 20°C
diam. × thickness
2.00 in. × 0.25 in.
bp
2567 °C (lit.)
mp
1083.4 °C (lit.)
density
8.94 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES string
[Cu]
InChI
1S/Cu
InChI key
RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N
Application
Storage Class
13 - Non Combustible Solids
wgk_germany
WGK 2
flash_point_f
Not applicable
flash_point_c
Not applicable
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