667447
Ceramic Etchant A
Sinónimos:
Al2O3 Etch, Aluminum Oxide Etchant, GaN Etch, Gallium Nitride Etchant, Si3N4 Etch, Silicon Nitride Etchant
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Application
Useful for fast and controllable etching of silicon nitride (Si3N4), galium nitride (GaN), or aluminum oxide (Al2O3).
Features and Benefits
Etch Rates @ 180 °C:
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min
signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B
Storage Class
8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
wgk_germany
WGK 1
flash_point_f
Not applicable
flash_point_c
Not applicable
ppe
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
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