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Sigma-Aldrich

二氯二异丙基硅烷

≥97.0% (GC)

同義詞:

二异丙基二氯硅烷

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About This Item

經驗公式(希爾表示法):
C6H14Cl2Si
CAS號碼:
分子量::
185.17
Beilstein:
1736244
MDL號碼:
分類程式碼代碼:
12352001
PubChem物質ID:
NACRES:
NA.22

品質等級

化驗

≥97.0% (GC)

形狀

liquid

折射率

n20/D 1.444

bp

66 °C/27 mmHg (lit.)

密度

1.026 g/mL at 20 °C (lit.)

SMILES 字串

CC(C)[Si](Cl)(Cl)C(C)C

InChI

1S/C6H14Cl2Si/c1-5(2)9(7,8)6(3)4/h5-6H,1-4H3

InChI 密鑰

GSENNYNYEKCQGA-UHFFFAOYSA-N

其他說明

基团保护试剂;引入的两个醇与"系链技术"密切相关

象形圖

FlameCorrosion

訊號詞

Danger

危險聲明

危險分類

Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B

儲存類別代碼

3 - Flammable liquids

水污染物質分類(WGK)

WGK 3

閃點(°F)

109.4 °F - closed cup

閃點(°C)

43 °C - closed cup

個人防護裝備

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


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J.H. Hutchinson et al.
Tetrahedron Letters, 32, 573-573 (1991)
C.L. Bradford et al.
Tetrahedron Letters, 36, 4189-4189 (1995)
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

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