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Merck
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Sigma-Aldrich

Silicon tetrabromide

99%

동의어(들):

Tetrabromosilane

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About This Item

Linear Formula:
SiBr4
CAS Number:
7789-66-4
Molecular Weight:
347.70
EC Number:
232-182-4
MDL number:
MFCD00049530
UNSPSC 코드:
12352103
PubChem Substance ID:
24860133
NACRES:
NA.23

vapor density

2.8 (vs air)

분석

99%

형태

liquid

반응 적합성

core: silicon

bp

153 °C (lit.)

mp

5 °C (lit.)

density

2.8 g/mL at 25 °C (lit.)

SMILES string

Br[Si](Br)(Br)Br

InChI

1S/Br4Si/c1-5(2,3)4

InChI key

AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N

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관련 카테고리

애플리케이션

Silicon tetrabromide (SiBr4) may be used to prepare photoluminescent silicon nanocrystals by chemical reduction with alkaline metals.

픽토그램

Corrosion
GHS05

신호어

Danger

유해 및 위험 성명서

H314

Hazard Classifications

Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1B

Storage Class Code

8B - Non-combustible corrosive hazardous materials

WGK

WGK 3

Flash Point (°F)

Not applicable

Flash Point (°C)

Not applicable

개인 보호 장비

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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시험 성적서(COA)

Lot/Batch Number
MKCQ6294
MKCM2552
MKCL1051
MKCL0576
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문서 라이브러리 방문

Photoluminescent silicon nanocrystals stabilized by ionic liquid.
Kamyshny A, et al.
Journal of Nanoparticle Research, 13(5), 1971-1978 (2011)
Double stabilization of nanocrystalline silicon: a bonus from solvent.
Kolyagin YG, et al.
Journal of Nanoparticle Research, 18(1), 17-17 (2016)

문서

Silicon Nitride Atomic Layer Deposition: A Brief Review of Precursor Chemistry

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

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