Passa al contenuto
Merck
Tutte le immagini(1)

Key Documents

469947

Sigma-Aldrich

Tris(dimethylamido)aluminum(III)

Sinonimo/i:

Hexakis(dimethylamido)dialuminum, Tris(dimethylamino)alane dimer

Autenticatiper visualizzare i prezzi riservati alla tua organizzazione & contrattuali


About This Item

Formula condensata:
Al(N(CH3)2)3
Numero CAS:
Peso molecolare:
159.21
Numero MDL:
Codice UNSPSC:
12352103
ID PubChem:
NACRES:
NA.23

Forma fisica

solid

Livello qualitativo

Impiego in reazioni chimiche

core: aluminum

Punto di fusione

82-84 °C (lit.)

Densità

0.865 g/mL at 25 °C (lit.)

Stringa SMILE

CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C.CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C

InChI

1S/6C2H6N.2Al/c6*1-3-2;;/h6*1-2H3;;/q6*-1;2*+3
JGZUJELGSMSOID-UHFFFAOYSA-N

Cerchi prodotti simili? Visita Guida al confronto tra prodotti

Descrizione generale

Atomic number of base material: 13 Aluminum

Applicazioni

Tris(dimethylamido)aluminum(III) may be used as a precursor to aluminum nitride (AlN) thin films by organometallic chemical vapor deposition (OMCVD).

Pittogrammi

FlameCorrosion

Avvertenze

Danger

Indicazioni di pericolo

Classi di pericolo

Skin Corr. 1B - Water-react 1

Rischi supp

Codice della classe di stoccaggio

4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water

Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)

WGK 3

Punto d’infiammabilità (°F)

70.0 °F - closed cup

Punto d’infiammabilità (°C)

21.1 °C - closed cup

Dispositivi di protezione individuale

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


Scegli una delle versioni più recenti:

Certificati d'analisi (COA)

Lot/Batch Number

Non trovi la versione di tuo interesse?

Se hai bisogno di una versione specifica, puoi cercare il certificato tramite il numero di lotto.

Possiedi già questo prodotto?

I documenti relativi ai prodotti acquistati recentemente sono disponibili nell’Archivio dei documenti.

Visita l’Archivio dei documenti

I clienti hanno visto anche

Slide 1 of 2

1 of 2

Tris (dimethylamido) aluminum (III): An overlooked atomic layer deposition precursor.
Buttera SC, et al.
Journal of Vacuum Science & Technology. A, Vacuum, Surfaces, And Films, 35(1), 01B128-01B128 (2017)

Articoli

High Purity Metalorganic Precursors for CPV Device Fabrication

Nanomaterials are considered a route to the innovations required for large-scale implementation of renewable energy technologies in society to make our life sustainable.

Il team dei nostri ricercatori vanta grande esperienza in tutte le aree della ricerca quali Life Science, scienza dei materiali, sintesi chimica, cromatografia, discipline analitiche, ecc..

Contatta l'Assistenza Tecnica.