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Merck

B45909

Sigma-Aldrich

4,8-双(羟甲基)三环[5.2.1.02,6]癸烷,异构体混合物

96%

别名:

TDMol, 三环[5.2.1.02,6]癸烷-4,8-二甲醇

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About This Item

经验公式(希尔记法):
C12H20O2
CAS号:
分子量:
196.29
EC號碼:
MDL號碼:
分類程式碼代碼:
12352100
PubChem物質ID:
NACRES:
NA.22

化驗

96%

形狀

liquid

折射率

n20/D 1.528 (lit.)

SMILES 字串

OCC1CC2[C@H]3CC(CO)[C@H](C3)C2C1

InChI

1S/C12H20O2/c13-5-7-1-10-8-3-9(6-14)11(4-8)12(10)2-7/h7-14H,1-6H2/t7?,8-,9?,10?,11-,12?/m0/s1

InChI 密鑰

ZFZDWMXUMXACHS-IACGZSPGSA-N

應用

4,8-双(羟甲基)三环[5.2.1.02,6]癸烷(TDMol)用于制备高分子量聚(1,4-碳酸亚丁酯)(PBC)。它还可用于光敏化合物(PAC)的合成中,用于制备正性光刻胶材料。

象形圖

Exclamation mark

訊號詞

Warning

危險聲明

危險分類

Eye Irrit. 2

儲存類別代碼

10 - Combustible liquids

水污染物質分類(WGK)

WGK 1

閃點(°F)

375.8 °F - closed cup

閃點(°C)

191 °C - closed cup

個人防護裝備

Eyeshields, Gloves


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Preparation of macrodiols and polyols by chopping high?molecular?weight aliphatic polycarbonates.
Jeon J Y, et al.
Journal of Polymer Science Part A: Polymer Chemistry, 52(11), 1570-1580 (2014)
Preparation for Acrylic Series Binders and Study of Thermal Property of Photo Resist.
Cheng T S
J. Polym. Mater., 27(4), 391-391 (2010)
Synthetic study and material applications for a positive photo resist of the acrylic series.
Cheng T S, et al.
Materials Letters, 57(3), 753-760 (2002)

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