Saltar al contenido
Merck

394505

Sigma-Aldrich

Xenon difluoride

99.99% trace metals basis

Sinónimos:

Xenon Fluoride (XeF2)

Iniciar sesiónpara Ver la Fijación de precios por contrato y de la organización


About This Item

Fórmula lineal:
XeF2
Número de CAS:
Peso molecular:
169.29
Número CE:
Número MDL:
Código UNSPSC:
12352300
ID de la sustancia en PubChem:
NACRES:
NA.23

presión de vapor

3.8 mmHg ( 25 °C)

Análisis

99.99% trace metals basis

formulario

crystals

mp

129 °C (lit.)

densidad

4.32 g/mL at 25 °C (lit.)

cadena SMILES

F[Xe]F

InChI

1S/F2Xe/c1-3-2

Clave InChI

IGELFKKMDLGCJO-UHFFFAOYSA-N

¿Está buscando productos similares? Visita Guía de comparación de productos

Descripción general

Xenon fluoride may be obtained by interacting elemental xenon and fluorine in the temperature range of 473-523 oC and 5 absolute atmosphere. Xenon difluoride readily interacts with Lewis acid and forms complexes.

Aplicación

Very useful fluorination agent. Xenon fluoride may be used as a fluorinating agent to analyze sulphur, selenium and tellurium by gas chromatography.

Envase

Packaged in PFA/FEP bottles

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

Clasificaciones de peligro

Acute Tox. 1 Inhalation - Acute Tox. 3 Oral - Eye Dam. 1 - Ox. Sol. 2 - Skin Corr. 1B

Código de clase de almacenamiento

5.1B - Oxidizing hazardous materials

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 3

Punto de inflamabilidad (°F)

Not applicable

Punto de inflamabilidad (°C)

Not applicable

Equipo de protección personal

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


Elija entre una de las versiones más recientes:

Certificados de análisis (COA)

Lot/Batch Number

¿No ve la versión correcta?

Si necesita una versión concreta, puede buscar un certificado específico por el número de lote.

¿Ya tiene este producto?

Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.

Visite la Librería de documentos

Los clientes también vieron

Use of Xenon difluoride for the determination of sulfur, selenium and tellurium as the volatile fluorides by gas chromatography
Aleinikov NN, et al.
Russian Chemical Bulletin, 22(11), 2552-2554 (1973)
Infrared spectra of complex compounds of xenon difluoride with ruthenium pentafluoride
Prusakov VN, et al.
Journal of Applied Spectroscopy, 17(1), 920-922 (1972)
Fluorination with XeF(2).(1) 44. Effect of Geometry and Heteroatom on the Regioselectivity of Fluorine Introduction into an Aromatic Ring.
Marko Zupan et al.
The Journal of organic chemistry, 63(3), 878-880 (2001-10-24)
Tsung Yi Chiang et al.
Journal of synchrotron radiation, 17(1), 69-74 (2009-12-24)
The synchrotron radiation (SR) stimulated etching of silicon elastomer polydimethylsiloxane (PDMS) using XeF(2) as an etching gas has been demonstrated. An etching system with differential pumps and two parabolic focusing mirrors was constructed to perform the etching. The PDMS was
Minseob Kim et al.
Nature chemistry, 2(9), 784-788 (2010-08-24)
The application of pressure, internal or external, transforms molecular solids into extended solids with more itinerant electrons to soften repulsive interatomic interactions in a tight space. Examples include insulator-to-metal transitions in O(2), Xe and I(2), as well as molecular-to-non-molecular transitions

Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.

Póngase en contacto con el Servicio técnico