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Merck

264776

Sigma-Aldrich

trans-2-Methyl-2-pentenoic acid

97%

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About This Item

Fórmula lineal:
C2H5CH=C(CH3)CO2H
Número de CAS:
Peso molecular:
114.14
Número CE:
Número MDL:
Código UNSPSC:
12352100
ID de la sustancia en PubChem:
NACRES:
NA.22

densidad de vapor

>1 (vs air)

Nivel de calidad

Análisis

97%

formulario

liquid

impurezas

2% cis-isomer

índice de refracción

n20/D 1.46 (lit.)

bp

123-125 °C/30 mmHg (lit.)

mp

26-28 °C (lit.)

grupo funcional

carboxylic acid

cadena SMILES

CC\C=C(/C)C(O)=O

InChI

1S/C6H10O2/c1-3-4-5(2)6(7)8/h4H,3H2,1-2H3,(H,7,8)/b5-4+

Clave InChI

JJYWRQLLQAKNAD-SNAWJCMRSA-N

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Descripción general

Adsorption and desorption of trans-2-methyl-2-pentenoic acid in dichloromethane has been investigated by using in situ attenuated total reflection infrared spectroscopy. Asymmetric hydrogenation of trans-2-methyl-2-pentenoic acid in hexane over two well defined E-40692 and E-5220 Engelhard Pd/Al2O3 catalysts modified with cinchonidine has been studied.

Pictogramas

Corrosion

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

Clasificaciones de peligro

Skin Corr. 1B

Código de clase de almacenamiento

8A - Combustible corrosive hazardous materials

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 2

Punto de inflamabilidad (°F)

226.4 °F - closed cup

Punto de inflamabilidad (°C)

108 °C - closed cup

Equipo de protección personal

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges


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Heterogeneous asymmetric hydrogenation and deuteration of 2-methyl-2-pentenoic acid over Pd supported catalysts: proton/deuterium exchange.
Solladie-Cavallo A, et al.
J. Mol. Catal. A: Chem., 195(1), 181-188 (2003)
Shuai Tan et al.
Physical chemistry chemical physics : PCCP, 13(43), 19573-19579 (2011-10-06)
Adsorption and desorption of trans-2-methyl-2-pentenoic acid (MPeA) in dichloromethane (CH(2)Cl(2)) were investigated by using in situ attenuated total reflection infrared (ATR-IR) spectroscopy. A liquid flow-through spectroscopic cell allowed for high quality spectra to be obtained from deposited thin films of

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