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Merck

217069

Sigma-Aldrich

Hexamethyldisilane

98%

Sinónimos:

Permethyldisilane, Trimethyl(trimethylsilyl)silane

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About This Item

Fórmula lineal:
(Si(CH3)3)2
Número de CAS:
Peso molecular:
146.38
Beilstein:
1633463
Número CE:
Número MDL:
Código UNSPSC:
12352103
ID de la sustancia en PubChem:
NACRES:
NA.23

Nivel de calidad

Análisis

98%

formulario

liquid

índice de refracción

n20/D 1.422 (lit.)

bp

112-114 °C (lit.)

mp

9-12 °C (lit.)

densidad

0.715 g/mL at 25 °C (lit.)

cadena SMILES

C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C

InChI

1S/C6H18Si2/c1-7(2,3)8(4,5)6/h1-6H3

Clave InChI

NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N

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Aplicación

Silylating reagent for allylic acetates, aryl halides, and diketones. Source material for vapor deposition during silicon carbide growth.
Source material for vapor deposition during silicon carbide growth.

Pictogramas

FlameExclamation mark

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

Clasificaciones de peligro

Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 2 - Skin Sens. 1 - STOT SE 3

Órganos de actuación

Respiratory system

Código de clase de almacenamiento

3 - Flammable liquids

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 3

Punto de inflamabilidad (°F)

21.2 °F

Punto de inflamabilidad (°C)

-6 °C

Equipo de protección personal

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter


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Chemistry Letters (Jpn), 2, 315-315 (1993)
Thin Solid Films, 252, 13-13 (1994)
The Journal of Organic Chemistry, 58, 3607-3607 (1993)
Journal of Organometallic Chemistry, 446, 135-135 (1993)
Thin Solid Films, 252, 13-13 (1994)

Artículos

atomic layer deposition (ALD), microelectronics, Mo:Al2O3 films, nanocomposite coating, photovoltaics, semiconductor devices, W:Al2O3 films, composite films, layer-by-layer

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