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Merck

205389

Sigma-Aldrich

Hexamethyldisiloxane

≥98%

Sinónimos:

HMDSO

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About This Item

Fórmula lineal:
(CH3)3SiOSi(CH3)3
Número de CAS:
Peso molecular:
162.38
Beilstein:
1736258
Número CE:
Número MDL:
Código UNSPSC:
12352103
ID de la sustancia en PubChem:
NACRES:
NA.22

densidad de vapor

>1 (vs air)

Nivel de calidad

Análisis

≥98%

formulario

liquid

índice de refracción

n20/D 1.377 (lit.)

bp

101 °C (lit.)
101 °C

mp

−59 °C (lit.)

densidad

0.764 g/mL at 20 °C (lit.)

cadena SMILES

C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C

InChI

1S/C6H18OSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h1-6H3

Clave InChI

UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N

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Descripción general

Hexamethyldisiloxane (HMDSO), a linear polydisiloxane, is an organosilicon reagent commonly utilized as a source for plasma enhanced chemical vapor deposition (PE-CVD) of thin films of silicon compounds. It is also employed as a substitute to silane in silicon integrated circuit technology. Its dissociative ionization by electron impact has been studied by Fourier transform mass spectrometry. Synthesis of plasma-polymerized HMDSO thin films by atmospheric pressure glow (APG) discharge has been reported. Crystals of HMDSO at 148K are monoclinic. Addition of HMDSO to P4S10, improves its efficiency as thionating agent.

Aplicación

Hexamethyldisiloxane can be used:
  • To fabricate a gas diffusion layer (GDL) with controlled hydrophobic silicone nano-layer by the dry deposition process.
  • To prepare silver nanoparticles coated with silica using arginine and glucose as the catalyst and the reducing agent, respectively.

Pictogramas

FlameEnvironment

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

Consejos de prudencia

Clasificaciones de peligro

Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Flam. Liq. 2

Código de clase de almacenamiento

3 - Flammable liquids

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 2

Punto de inflamabilidad (°F)

21.2 °F - closed cup

Punto de inflamabilidad (°C)

-6 °C - closed cup

Equipo de protección personal

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter


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Thin films deposition from hexamethyldisiloxane and hexamethyldisilazane under dielectric-barrier discharge (DBD) conditions.
Schmidt-Szalowski K, et al.
Plasmas and polymers, 5(3-4), 173-190 (2000)
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J. Chem. Phys., 21(5), 945-945 (1953)

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