202118
Hafnium(IV) oxide
powder, 98%
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About This Item
Fórmula empírica (notación de Hill):
HfO2
Número de CAS:
Peso molecular:
210.49
Número CE:
Número MDL:
Código UNSPSC:
12352303
ID de la sustancia en PubChem:
NACRES:
NA.23
Productos recomendados
Nivel de calidad
Análisis
98%
formulario
powder
densidad
9.68 g/mL at 25 °C (lit.)
cadena SMILES
O=[Hf]=O
InChI
1S/Hf.2O
Clave InChI
CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N
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Aplicación
- Hafnium(IV) oxide: Utilized predominantly in the semiconductor industry, Hafnium(IV) oxide offers excellent thermal and chemical stability, which makes it suitable as a high-k gate dielectric material in metal-oxide-semiconductor (MOS) devices. Its application has become increasingly important with the miniaturization of electronic components, aiding in the enhancement of transistor performance without further reducing the component size. This role is critical in the development of more efficient, faster computing technologies (Sigma-Aldrich, CAS 12055-23-1).
Código de clase de almacenamiento
11 - Combustible Solids
Clase de riesgo para el agua (WGK)
nwg
Punto de inflamabilidad (°F)
Not applicable
Punto de inflamabilidad (°C)
Not applicable
Equipo de protección personal
Eyeshields, Gloves, type N95 (US)
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