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Tetramethylsilan
≥99.0% (GC)
Synonym(e):
TMS
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About This Item
Empfohlene Produkte
Dampfdruck
11.66 psi ( 20 °C)
Qualitätsniveau
Assay
≥99.0% (GC)
Form
liquid
Selbstzündungstemp.
842 °F
Brechungsindex
n20/D 1.358 (lit.)
n20/D 1.359
bp
26-28 °C (lit.)
mp (Schmelzpunkt)
−99 °C (lit.)
Dichte
0.648 g/mL at 25 °C (lit.)
Lagertemp.
2-8°C
SMILES String
C[Si](C)(C)C
InChI
1S/C4H12Si/c1-5(2,3)4/h1-4H3
InChIKey
CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N
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Anwendung
Tetramethylsilane can be used as a silicon precursor for the synthesis of silicon doped diamond-like carbon (DLC-Si) films and silicon carbide (SiC) bulk crystals. It can also be used as a hydrocarbon substrate to study intermolecular C-H activation chemistry.
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