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Merck

651761

Sigma-Aldrich

Negativresist-Entferner I

Anmeldenzur Ansicht organisationsspezifischer und vertraglich vereinbarter Preise


About This Item

UNSPSC-Code:
12352300

Haltbarkeit

1 yr (cool area away from direct sunlight)

Qualitätsniveau

pH-Wert

<2 (20 °C)

bp

204-304 °C (lit.)

Dichte

1.00 g/mL at 25 °C (lit.)

Lagertemp.

2-8°C

Allgemeine Beschreibung

Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.

Signalwort

Danger

Gefahreneinstufungen

Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1

Lagerklassenschlüssel

8A - Combustible, corrosive hazardous materials

WGK

WGK 3

Flammpunkt (°F)

204.8 °F

Flammpunkt (°C)

96 °C


Analysenzertifikate (COA)

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Protokolle

Our photoresist kit was designed to have the necessary chemical components for each step in the lithographic process. The component materials are provided in pre-weighed quantities for your convenience. Etchants are available separately so that the proper etchant can be chosen for a variety of substrate choices.

Unser Team von Wissenschaftlern verfügt über Erfahrung in allen Forschungsbereichen einschließlich Life Science, Materialwissenschaften, chemischer Synthese, Chromatographie, Analytik und vielen mehr..

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