774030
Zirconium(IV) oxide
sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.95% trace metals basis (excludes 2% HfO2)
Sinonimo/i:
Zirconia
About This Item
Saggio
99.95% trace metals basis (excludes 2% HfO2)
Forma fisica
powder
Impiego in reazioni chimiche
core: zirconium
diam. × spessore
2.00 in. × 0.25 in.
P. eboll.
5000 °C (lit.)
Punto di fusione
2700 °C (lit.)
Densità
5.89 g/mL at 25 °C (lit.)
Stringa SMILE
O=[Zr]=O
InChI
1S/2O.Zr
MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N
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Applicazioni
Zirconium oxide sputtering target can be used for physical vapor deposition of zirconia thin films for IT-SOFC, thermal barrier coatings, lead zirconium titanate (PZT) films for sensor applications and other zirconium containing films for different applications.
Codice della classe di stoccaggio
11 - Combustible Solids
Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)
nwg
Punto d’infiammabilità (°F)
Not applicable
Punto d’infiammabilità (°C)
Not applicable
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