651761
Negative resist remover I
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About This Item
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Durata
1 yr (cool area away from direct sunlight)
Livello qualitativo
pH
<2 (20 °C)
P. eboll.
204-304 °C (lit.)
Densità
1.00 g/mL at 25 °C (lit.)
Temperatura di conservazione
2-8°C
Descrizione generale
Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.
Avvertenze
Danger
Indicazioni di pericolo
Classi di pericolo
Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1
Codice della classe di stoccaggio
8A - Combustible corrosive hazardous materials
Classe di pericolosità dell'acqua (WGK)
WGK 3
Punto d’infiammabilità (°F)
204.8 °F
Punto d’infiammabilità (°C)
96 °C
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Protocolli
Negative Photoresist Procedure
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