774030
Zirconium(IV) oxide
sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.95% trace metals basis (excludes 2% HfO2)
Sinônimo(s):
Zirconia
About This Item
Ensaio
99.95% trace metals basis (excludes 2% HfO2)
Formulário
powder
adequação da reação
core: zirconium
diâmetro × espessura
2.00 in. × 0.25 in.
p.e.
5000 °C (lit.)
pf
2700 °C (lit.)
densidade
5.89 g/mL at 25 °C (lit.)
cadeia de caracteres SMILES
O=[Zr]=O
InChI
1S/2O.Zr
chave InChI
MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N
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Aplicação
Zirconium oxide sputtering target can be used for physical vapor deposition of zirconia thin films for IT-SOFC, thermal barrier coatings, lead zirconium titanate (PZT) films for sensor applications and other zirconium containing films for different applications.
Código de classe de armazenamento
11 - Combustible Solids
Classe de risco de água (WGK)
nwg
Ponto de fulgor (°F)
Not applicable
Ponto de fulgor (°C)
Not applicable
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