HF100D
Hall Device Chip
HF100D
About This Item
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Matériaux
gold/chromium electrode (Au/Cr)
silica coating (SiO2)
Description
die layer thickness 300 nm SiO2
electrode layer thickness 60 nm gold
Caractéristiques
optimized for hall
Conditionnement
pkg of 16 diced devices
Fabricant/nom de marque
HF100D
die thickness
525 μm , silicon
Taille de l'électrode
10 nm , chrome
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