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Sigma-Aldrich

Zirconium(IV) oxide

sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.95% trace metals basis (excludes 2% HfO2)

Synonyme(s) :

Zirconia

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About This Item

Formule linéaire :
ZrO2
Numéro CAS:
1314-23-4
Poids moléculaire :
123.22
Numéro CE :
215-227-2
Numéro MDL:
MFCD00011310
Code UNSPSC :
12352300
ID de substance PubChem :
329767656
Nomenclature NACRES :
NA.23

Pureté

99.95% trace metals basis (excludes 2% HfO2)

Forme

powder

Pertinence de la réaction

core: zirconium

Diam. × épaisseur

2.00 in. × 0.25 in.

Point d'ébullition

5000 °C (lit.)

Pf

2700 °C (lit.)

Densité

5.89 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

O=[Zr]=O

InChI

1S/2O.Zr

Clé InChI

MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N

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Application

Solid Oxide Fuel cells operating at temperatures below 800 C (also known as intermediate temperature solid oxide fuel cell, IT-SOFC) are currently the topic of much research and development owing to the high degradation rates and materials costs incurred for SOFC operating at temperatures above 900 C. Thin films of electrode and electrolyte layers is one of the ways to achieve high performances in IT-SOFC.
Zirconium oxide sputtering target can be used for physical vapor deposition of zirconia thin films for IT-SOFC, thermal barrier coatings, lead zirconium titanate (PZT) films for sensor applications and other zirconium containing films for different applications.

Code de la classe de stockage

11 - Combustible Solids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

nwg

Point d'éclair (°F)

Not applicable

Point d'éclair (°C)

Not applicable

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