651761
Negativresist-Entferner I
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About This Item
Empfohlene Produkte
Haltbarkeit
1 yr (cool area away from direct sunlight)
Qualitätsniveau
pH-Wert
<2 (20 °C)
bp
204-304 °C (lit.)
Dichte
1.00 g/mL at 25 °C (lit.)
Lagertemp.
2-8°C
Allgemeine Beschreibung
Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.
Signalwort
Danger
H-Sätze
Gefahreneinstufungen
Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1
Lagerklassenschlüssel
8A - Combustible corrosive hazardous materials
WGK
WGK 3
Flammpunkt (°F)
204.8 °F
Flammpunkt (°C)
96 °C
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Protokolle
Negative Photoresist Procedure
Unser Team von Wissenschaftlern verfügt über Erfahrung in allen Forschungsbereichen einschließlich Life Science, Materialwissenschaften, chemischer Synthese, Chromatographie, Analytik und vielen mehr..
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