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化驗
≥97%
形狀
liquid
包含
~60 ppm monomethyl ether hydroquinone as inhibitor
折射率
n20/D 1.458 (lit.)
bp
68-70 °C/4 mmHg (lit.)
密度
0.964 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES 字串
CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1
InChI
1S/C10H16O2/c1-8(2)10(11)12-9-6-4-3-5-7-9/h9H,1,3-7H2,2H3
InChI 密鑰
OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N
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一般說明
甲基丙烯酸环己酯(CHMA)是一种具有高折射率的丙烯酸酯单体,由于在紫外光照射下具有快速聚合的能力,通常用于紫外(UV)固化过程。紫外可固化CHMA基涂层、粘合剂和墨水具有快速固化能力、良好的硬度、疏水性和高耐用性。它具有良好的光学净度(optical clarity),从而可以得到具有高透明度和最小失真(distortion)的隐形眼镜。它也可作为交联剂用于牙科复合材料和组织工程的共聚物系统中,以改善由此生成的材料的机械和热学性质。
應用
甲基丙烯酸环己酯可用于:
- 作为单体制备用于发光太阳能聚光器( luminescent solar concentrator,LSC)的聚甲基丙烯酸环己酯(PCHMA)薄膜。这些LSC可用于制备高量子产率光伏太阳能电池。
- 作为共聚单体,制备用于生产具有高颜色透明性的发光二极管的量子点丙烯酸酯树脂。
- 作为单体,合成用于各种应用(如抗腐蚀表面、减阻和节能)的超疏水二氧化硅纳米颗粒表面。
訊號詞
Warning
危險分類
Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2 - Skin Sens. 1 - STOT SE 3
標靶器官
Respiratory system
儲存類別代碼
10 - Combustible liquids
水污染物質分類(WGK)
WGK 1
閃點(°F)
181.4 °F
閃點(°C)
83 °C
個人防護裝備
Eyeshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
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