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品質等級
反應適用性
reaction type: C-C Bond Formation
折射率
n20/D 1.48 (lit.)
bp
59 °C/0.9 mmHg (lit.)
密度
0.861 g/mL at 25 °C (lit.)
官能基
amine
SMILES 字串
CN(C)\C(N(C)C)=C(\N(C)C)N(C)C
InChI
1S/C10H24N4/c1-11(2)9(12(3)4)10(13(5)6)14(7)8/h1-8H3
InChI 密鑰
CBXRMKZFYQISIV-UHFFFAOYSA-N
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應用
作为还原剂
作为以下过程的反应物:
- 双氧合反应
- 将铝阴离子插入C-N键
- 与氧气的化学发光反应
訊號詞
Danger
危險聲明
危險分類
Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B
儲存類別代碼
3 - Flammable liquids
水污染物質分類(WGK)
WGK 3
閃點(°F)
127.4 °F - closed cup
閃點(°C)
53 °C - closed cup
個人防護裝備
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
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商品
在2001年,佛罗里达大学的William Dolbier,Jr.教授报告了一种亲核三氟甲基化的方法,该方法基于在强力双电子还原剂四(二甲基氨基)乙烯(TDAE)存在下使用CF3I生成三氟甲基阴离子。
In 2001, Professor William Dolbier, Jr., at the University of Florida reported1 an approach to nucleophilic trifluoromethylation based on the generation of a trifluoromethyl anion using CF3I in the presence of a powerful twoelectron reductant, tetrakis(dimethylamino)ethylene (TDAE)
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