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Merck

Précurseurs de dépôt en solution et en phase vapeur

Le dépôt en solution et le dépôt en phase vapeur sont deux options de synthèse utilisées pour former des films minces et des revêtements avancés de précision.

Le dépôt en solution et le dépôt en phase vapeur sont deux options de synthèse utilisées pour former des films minces et des revêtements avancés de précision. Le dépôt en solution, aussi appelé procédé sol-gel, peut servir à préparer un vaste éventail de matériaux composites hybrides et inorganiques à partir d'une solution de précurseurs. Des suspensions colloïdales dénommées " sols " peuvent être converties en gel, puis en solide. Le dépôt en phase vapeur englobe une multitude de techniques permettant de convertir des précurseurs ou des substances cibles en phase vapeur, puis d'utiliser cette phase vapeur pour former des films techniques sur des substrats. Notre compendium de produits destinés aux techniques de dépôt permet d'ajuster précisément les propriétés des films minces et des revêtements. Vous pouvez choisir parmi notre large palette de précurseurs de dépôt de film fiables et de grande qualité, en fonction de la méthode que vous avez sélectionnée et de votre application.




Précurseurs de dépôt en solution

Nous proposons une vaste palette de précurseurs de dépôt en solution dédiés, avec 55 métaux de base différents dans l'acétate, l'acétylacétonate, le tert-butoxyde, l'isopropoxyde, le phénoxyde, l'éthoxyde, le tri-sec-butoxyde, le méthoxyde, le 2-éthylhexanoate, entre autres fonctionnalités. Ces produits sont disponibles à divers degrés de pureté de 90 % à 99,999 %, à diverses concentrations assorties dans certains solvants, et sous forme de divers hydrates spécifiques, pour vous permettre d'utiliser la chimie particulière que vous avez choisie.

Précurseurs de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) / dépôt de couches atomiques (ALD)

Nous proposons des précurseurs métalliques, des précurseurs métallo-organiques et des précurseurs organométalliques volatils de grande qualité pour le CVD (chemical vapour deposition, ou dépôt chimique en phase vapeur) et l'ALD (atomic layer deposition, ou dépôt de couches atomiques). Pour plus de commodité et de sécurité, ces précurseurs sont préconditionnés dans des cylindres en acier et destinés à être utilisés avec tout un assortiment de systèmes de dépôt.

Matériaux de dépôt physique en phase vapeur

Le dépôt physique en phase vapeur (PVD pour physical vapour deposition) utilise une matière vaporisée à partir d'un matériau source solide pour déposer des films minces sur un substrat. Nous proposons des cibles de pulvérisation, des granulés, des feuilles métalliques et des blocs pour évaporation destinés à diverses applications de PVD, notamment les dispositifs micro-électroniques, les électrodes de batterie, les barrières de diffusion et les revêtements optiques.



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