774022
Yttrium(III) oxide
sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.99% trace metals basis
Synonyme(s) :
Yttria
About This Item
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Pureté
99.99% trace metals basis
Forme
powder
Pertinence de la réaction
core: yttrium
Diam. × épaisseur
2.00 in. × 0.25 in.
Pf
2410 °C (lit.)
Densité
5.01 g/mL at 25 °C (lit.)
Chaîne SMILES
O=[Y]O[Y]=O
InChI
1S/3O.2Y
Clé InChI
SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N
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Application
Yttrium oxide sputtering target can be used for physical vapor deposition of thin films of yttria stabilized zirconia layers for IT-SOFC. Yttrium containing films are used as thermal barrier and protective coatings in thermoelectric devices, rare earth doped yttrium oxide films are studied for phosphor applications.
Code de la classe de stockage
13 - Non Combustible Solids
Classe de danger pour l'eau (WGK)
WGK 1
Point d'éclair (°F)
Not applicable
Point d'éclair (°C)
Not applicable
Certificats d'analyse (COA)
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