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651761

Sigma-Aldrich

Negative resist remover I

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About This Item

Code UNSPSC :
12352300
Nomenclature NACRES :
NA.23

Durée de conservation

1 yr (cool area away from direct sunlight)

Niveau de qualité

100

pH

<2 (20 °C)

Point d'ébullition

204-304 °C (lit.)

Densité

1.00 g/mL at 25 °C (lit.)

Température de stockage

2-8°C

Description générale

Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H302,H304,H314,H351,H411

Classification des risques

Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1

Code de la classe de stockage

8A - Combustible corrosive hazardous materials

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

204.8 °F

Point d'éclair (°C)

96 °C

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Certificats d'analyse (COA)

Lot/Batch Number
MKCN0261
MKCM9918
MKCK5971
MKCK1587
MKCH7075

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Protocoles

Negative Photoresist Procedure

Our photoresist kit was designed to have the necessary chemical components for each step in the lithographic process. The component materials are provided in pre-weighed quantities for your convenience. Etchants are available separately so that the proper etchant can be chosen for a variety of substrate choices.

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

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