Accéder au contenu
Merck
Toutes les photos(2)

Key Documents

Autres documents

371904

Sigma-Aldrich

1,3-Divinyltetramethyldisiloxane

97%

Synonyme(s) :

1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-divinyldisiloxane

Se connecterpour consulter vos tarifs contractuels et ceux de votre entreprise/organisme
Toutes les photos(2)

About This Item

Formule linéaire :
[H2C=CHSi(CH3)2]2O
Numéro CAS:
2627-95-4
Poids moléculaire :
186.40
Numéro Beilstein :
1762585
Numéro CE :
220-099-6
Numéro MDL:
MFCD00014933
Code UNSPSC :
12162002
ID de substance PubChem :
24863134
Nomenclature NACRES :
NA.23

Pureté

97%

Forme

liquid

Indice de réfraction

n20/D 1.411 (lit.)

Point d'ébullition

139 °C (lit.)

Pf

−99 °C (lit.)

Densité

0.809 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

C[Si](C)(O[Si](C)(C)C=C)C=C

InChI

1S/C8H18OSi2/c1-7-10(3,4)9-11(5,6)8-2/h7-8H,1-2H2,3-6H3

Clé InChI

BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N

Application


  • Synthesis and Studies on the Effect of Phenyl Side–Chain Content on Refractive Index of Polysiloxane Resin: This study used 1,3-divinyltetramethyldisiloxane as a terminating agent to modify polysiloxane resin properties (Ramli et al., 2015).

  • Undecenoic Acid-Based Polydimethylsiloxanes Obtained by Hydrosilylation and Hydrothiolation Reactions: This paper explored the use of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane as a blocking agent in the synthesis of polydimethylsiloxanes (Milenin et al., 2020).

  • Efficient Improvement in Electrochemical Properties of High-Voltage Li-rich Mn-Based Layered Oxide Cathode by Addition of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane: The additive 1,3-divinyltetramethyldisiloxane was used to enhance electrochemical properties of Li-rich layered oxide cathode (Huang et al., 2023).

Pictogrammes

Flame
GHS02

Mention d'avertissement

Danger

Mentions de danger

H225

Classification des risques

Flam. Liq. 2

Code de la classe de stockage

3 - Flammable liquids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

71.1 °F - closed cup

Point d'éclair (°C)

21.7 °C - closed cup

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificats d'analyse (COA)

Recherchez un Certificats d'analyse (COA) en saisissant le numéro de lot du produit. Les numéros de lot figurent sur l'étiquette du produit après les mots "Lot" ou "Batch".

Déjà en possession de ce produit ?

Retrouvez la documentation relative aux produits que vous avez récemment achetés dans la Bibliothèque de documents.

Consulter la Bibliothèque de documents

Seungmin Shin et al.
Nanotechnology, 27(47), 475301-475301 (2016-10-27)
Novel polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) resists, which are based on a new photo-crosslinking system via Wolff rearrangement, are developed as ideal replica mold materials for ultraviolet-nanoimprint lithography. These POSS resist materials are synthesized by incorporating diazoketo and hydroxyl groups into
B Sivaranjini et al.
Scientific reports, 8(1), 8891-8891 (2018-06-13)
A simple and effective approach for vertical alignment of liquid crystals (LCs) over a functionalized transparent flexible substrate is described. Surface characterization of this commercially available plastic substrate through X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and attenuated total reflection infrared spectroscopy (ATR-IR)

Notre équipe de scientifiques dispose d'une expérience dans tous les secteurs de la recherche, notamment en sciences de la vie, science des matériaux, synthèse chimique, chromatographie, analyse et dans de nombreux autres domaines..

Contacter notre Service technique