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Sigma-Aldrich

1-(2-Hydroxyethyl)piperidine

ReagentPlus®, 99%

Synonyme(s) :

1-Piperidineethanol, 2-Piperidinoethanol

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About This Item

Formule empirique (notation de Hill):
C7H15NO
Numéro CAS:
3040-44-6
Poids moléculaire :
129.20
Numéro Beilstein :
103390
Numéro CE :
221-244-6
Numéro MDL:
MFCD00006512
Code UNSPSC :
12352100
ID de substance PubChem :
24847261
Nomenclature NACRES :
NA.22

Niveau de qualité

200

Gamme de produits

ReagentPlus®

Pureté

99%

Indice de réfraction

n20/D 1.4804 (lit.)

Point d'ébullition

199-202 °C (lit.)

Densité

0.973 g/mL at 25 °C (lit.)

Groupe fonctionnel

hydroxyl

Chaîne SMILES 

OCCN1CCCCC1

InChI

1S/C7H15NO/c9-7-6-8-4-2-1-3-5-8/h9H,1-7H2

Clé InChI

KZTWONRVIPPDKH-UHFFFAOYSA-N

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Application

1-(2-Hydroxyethyl)piperidine (1-Piperidineethanol) has been used as the base quencher to determine the efficiency of the decomposition of photoacid generators.
Counter-ion used for investigations of skin permeation of flurbiprofen

Catalyst used for enantioselective synthesis

Amine quencher used during synthesis of photoacid generators for ArF lithography

Adsorbent for capture and release of pressurized carbon dioxide for greenhouse gas control

Informations légales

ReagentPlus is a registered trademark of Merck KGaA, Darmstadt, Germany

Pictogrammes

Exclamation mark
GHS07

Mention d'avertissement

Warning

Mentions de danger

H302

Conseils de prudence

P301 + P312 + P330

Classification des risques

Acute Tox. 4 Oral

Code de la classe de stockage

10 - Combustible liquids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

156.2 °F - closed cup

Point d'éclair (°C)

69 °C - closed cup

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

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Certificats d'analyse (COA)

Lot/Batch Number
STBK1704
STBH4763
STBG8095
STBD9971V
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An asymmetric autocatalytic reaction has been catalyzed by a mixture of chiral and achiral beta-amino alcohols. The absolute configuration of the highly enantioenriched obtained product (>98% ee) was shown to depend not only on the absolute configuration of the chiral
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Chemistry of Materials, 13(11), 4154-4162 (2001)
K. Tomizaki, et al.,
Chemistry Letters (Jpn), 37, 516-517 (2008)
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J. Photopolym. Sci. Technol., 18, 407-414 (2005)
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