774030
Zirconium(IV) oxide
sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.95% trace metals basis (excludes 2% HfO2)
Sinónimos:
Zirconia
About This Item
Análisis
99.95% trace metals basis (excludes 2% HfO2)
formulario
powder
idoneidad de la reacción
core: zirconium
diám. × grosor
2.00 in. × 0.25 in.
bp
5000 °C (lit.)
mp
2700 °C (lit.)
densidad
5.89 g/mL at 25 °C (lit.)
cadena SMILES
O=[Zr]=O
InChI
1S/2O.Zr
Clave InChI
MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N
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Aplicación
Zirconium oxide sputtering target can be used for physical vapor deposition of zirconia thin films for IT-SOFC, thermal barrier coatings, lead zirconium titanate (PZT) films for sensor applications and other zirconium containing films for different applications.
Código de clase de almacenamiento
11 - Combustible Solids
Clase de riesgo para el agua (WGK)
nwg
Punto de inflamabilidad (°F)
Not applicable
Punto de inflamabilidad (°C)
Not applicable
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