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767506

Sigma-Aldrich

Titanium

sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.995% trace metals basis

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About This Item

Fórmula empírica (notación de Hill):
Ti
Número de CAS:
7440-32-6
Peso molecular:
47.87
Número CE:
231-142-3
Número MDL:
MFCD00011264
Código UNSPSC:
12352103
ID de la sustancia en PubChem:
329767320
NACRES:
NA.23

Nivel de calidad

100

Ensayo

99.995% trace metals basis

Formulario

solid

temp. de autoignición

860 °F

idoneidad de la reacción

core: titanium

resistividad

42.0 μΩ-cm, 20°C

diám. × grosor

2.00 in. × 0.25 in.

bp

3287 °C (lit.)

mp

1660 °C (lit.)

densidad

4.5 g/mL at 25 °C (lit.)

cadena SMILES

[Ti]

InChI

1S/Ti

Clave InChI

RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N

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Aplicación

Sputtering is a process whereby atoms are ejected from a solid target material due to bombardment of the target by energetic particles. The extreme miniaturization of components in the semiconductor and electronics industry requires high purity sputtering targets for thin film deposition.

Código de clase de almacenamiento

11 - Combustible Solids

Clase de riesgo para el agua (WGK)

nwg

Punto de inflamabilidad (°F)

Not applicable

Punto de inflamabilidad (°C)

Not applicable

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Certificados de análisis (COA)

Lot/Batch Number
MKCQ4984
MKCM7694
MKBX7003V
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