651761
Negative resist remover I
Iniciar sesiónpara Ver la Fijación de precios por contrato y de la organización
About This Item
Código UNSPSC:
12352300
NACRES:
NA.23
Productos recomendados
caducidad
1 yr (cool area away from direct sunlight)
Nivel de calidad
pH
<2 (20 °C)
bp
204-304 °C (lit.)
densidad
1.00 g/mL at 25 °C (lit.)
temp. de almacenamiento
2-8°C
Descripción general
Available as part of Negative Photoresist kit 654892
Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.
Palabra de señalización
Danger
Frases de peligro
Clasificaciones de peligro
Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Chronic 2 - Asp. Tox. 1 - Carc. 2 - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1
Código de clase de almacenamiento
8A - Combustible corrosive hazardous materials
Clase de riesgo para el agua (WGK)
WGK 3
Punto de inflamabilidad (°F)
204.8 °F
Punto de inflamabilidad (°C)
96 °C
Elija entre una de las versiones más recientes:
¿Ya tiene este producto?
Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.
Protocolos
Negative Photoresist Procedure
Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.
Póngase en contacto con el Servicio técnico