Saltar al contenido
Merck
Todas las fotos(2)

Documentos clave

Ver Toda la documentación

371904

Sigma-Aldrich

1,3-Divinyltetramethyldisiloxane

97%

Sinónimos:

1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-divinyldisiloxane

Iniciar sesiónpara Ver la Fijación de precios por contrato y de la organización
Todas las fotos(2)

About This Item

Fórmula lineal:
[H2C=CHSi(CH3)2]2O
Número de CAS:
2627-95-4
Peso molecular:
186.40
Beilstein:
1762585
Número CE:
220-099-6
Número MDL:
MFCD00014933
Código UNSPSC:
12162002
ID de la sustancia en PubChem:
24863134
NACRES:
NA.23

Nivel de calidad

100

Análisis

97%

formulario

liquid

índice de refracción

n20/D 1.411 (lit.)

bp

139 °C (lit.)

mp

−99 °C (lit.)

densidad

0.809 g/mL at 25 °C (lit.)

cadena SMILES

C[Si](C)(O[Si](C)(C)C=C)C=C

InChI

1S/C8H18OSi2/c1-7-10(3,4)9-11(5,6)8-2/h7-8H,1-2H2,3-6H3

Clave InChI

BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N

Aplicación


  • Synthesis and Studies on the Effect of Phenyl Side–Chain Content on Refractive Index of Polysiloxane Resin: This study used 1,3-divinyltetramethyldisiloxane as a terminating agent to modify polysiloxane resin properties (Ramli et al., 2015).

  • Undecenoic Acid-Based Polydimethylsiloxanes Obtained by Hydrosilylation and Hydrothiolation Reactions: This paper explored the use of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane as a blocking agent in the synthesis of polydimethylsiloxanes (Milenin et al., 2020).

  • Efficient Improvement in Electrochemical Properties of High-Voltage Li-rich Mn-Based Layered Oxide Cathode by Addition of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane: The additive 1,3-divinyltetramethyldisiloxane was used to enhance electrochemical properties of Li-rich layered oxide cathode (Huang et al., 2023).

Pictogramas

Flame
GHS02

Palabra de señalización

Danger

Frases de peligro

H225

Clasificaciones de peligro

Flam. Liq. 2

Código de clase de almacenamiento

3 - Flammable liquids

Clase de riesgo para el agua (WGK)

WGK 3

Punto de inflamabilidad (°F)

71.1 °F - closed cup

Punto de inflamabilidad (°C)

21.7 °C - closed cup

Equipo de protección personal

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

Elija entre una de las versiones más recientes:

Certificados de análisis (COA)

Lot/Batch Number
MKCP5367
MKCN7102
MKCM8508
MKCL9812
MKCJ9068

¿No ve la versión correcta?

Si necesita una versión concreta, puede buscar un certificado específico por el número de lote.

Busque por un COA

¿Ya tiene este producto?

Encuentre la documentación para los productos que ha comprado recientemente en la Biblioteca de documentos.

Visite la Librería de documentos

Seungmin Shin et al.
Nanotechnology, 27(47), 475301-475301 (2016-10-27)
Novel polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) resists, which are based on a new photo-crosslinking system via Wolff rearrangement, are developed as ideal replica mold materials for ultraviolet-nanoimprint lithography. These POSS resist materials are synthesized by incorporating diazoketo and hydroxyl groups into
B Sivaranjini et al.
Scientific reports, 8(1), 8891-8891 (2018-06-13)
A simple and effective approach for vertical alignment of liquid crystals (LCs) over a functionalized transparent flexible substrate is described. Surface characterization of this commercially available plastic substrate through X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and attenuated total reflection infrared spectroscopy (ATR-IR)

Nuestro equipo de científicos tiene experiencia en todas las áreas de investigación: Ciencias de la vida, Ciencia de los materiales, Síntesis química, Cromatografía, Analítica y muchas otras.

Póngase en contacto con el Servicio técnico