774022
Yttrium(III)-oxid
sputtering target, diam. × thickness 2.00 in. × 0.25 in., 99.99% trace metals basis
Synonym(e):
Yttria
About This Item
Empfohlene Produkte
Assay
99.99% trace metals basis
Form
powder
Eignung der Reaktion
core: yttrium
Durchm. × Dicke
2.00 in. × 0.25 in.
mp (Schmelzpunkt)
2410 °C (lit.)
Dichte
5.01 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES String
O=[Y]O[Y]=O
InChI
1S/3O.2Y
InChIKey
SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N
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Anwendung
Yttrium oxide sputtering target can be used for physical vapor deposition of thin films of yttria stabilized zirconia layers for IT-SOFC. Yttrium containing films are used as thermal barrier and protective coatings in thermoelectric devices, rare earth doped yttrium oxide films are studied for phosphor applications.
Lagerklassenschlüssel
13 - Non Combustible Solids
WGK
WGK 1
Flammpunkt (°F)
Not applicable
Flammpunkt (°C)
Not applicable
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