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Tetraethylorthosilicat

packaged for use in deposition systems

• Synonym(e): Tetraethylorthosilikat, Orthokieselsäure-Tetraethylester, TEOS, Tetraethoxysilan
• Lineare Formel: Si(OC₂H₅)₄
• CAS-Nummer: 78-10-4
• Molekulargewicht: 208.33
• Beilstein: 1422225
• EG-Nummer: 201-083-8
• MDL-Nummer: MFCD00009062
• UNSPSC-Code: 12352103
• PubChem Substanz-ID: 329766783
• NACRES: NA.23

Eigenschaften

• Dampfdichte: 7.2 (vs air)
• Qualitätsniveau: 100
• Dampfdruck: <1 mmHg ( 20 °C)
• Assay: ≥99.5% (GC)
• Form: liquid
• Brechungsindex: n20/D 1.382 (lit.)
• bp: 168 °C (lit.)
• Dichte: 0.933 g/mL at 20 °C (lit.)
• SMILES String: CCO[Si](OCC)(OCC)OCC
• InChI: 1S/C8H20O4Si/c1-5-9-13(10-6-2,11-7-3)12-8-4/h5-8H2,1-4H3
• InChIKey: BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N

Beschreibung

Anwendung

Tetraethyl orthosilicate (TEOS) is an oxygen containing precursor of Si used for the deposition of:

• Si oxide
• Oxycarbide
• Doped silicate
• Silanol
• Siloxane polymer
• Organosilicon thin films

The films can be deposited at low temperatues (<250 °C). TEOS is also used to deposit mesoporous and nanoporous thin films of silica. These porous films can be doped during deposition to further enhance their properties.

Häufig als Vorstufe zur Herstellung von Xerogel verwendet

Wechselwirkung mit Dodecylamin bei der Bildung von Interkalationsverbindungen von H⁺-Magadiit und Verwendung in einer Studie über bioaktive Gläser aus Mischmetall.

Sicherheitshinweise

• Piktogramme: GHS02,GHS07
• Signalwort: Warning
• H-Sätze: H226,H319,H332,H335
• P-Sätze: P210 - P233 - P240 - P241 - P304 + P340 + P312 - P305 + P351 + P338
• Gefahreneinstufungen: Acute Tox. 4 Inhalation - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - STOT SE 3
• Zielorgane: Respiratory system
• Lagerklassenschlüssel: 3 - Flammable liquids
• WGK: WGK 1
• Flammpunkt (°F): 113.0 °F - closed cup
• Flammpunkt (°C): 45 °C - closed cup