667447
Keramisches Ätzmittel A
Synonym(e):
Al2O3 Beize, Aluminiumoxid Ätzmittel, GaN Etch, Galliumnitrid Ätzmittel, Si3N4 Beize, Siliziumnitrid Ätzmittel
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Verwandte Kategorien
Anwendung
Useful for fast and controllable etching of silicon nitride (Si3N4), galium nitride (GaN), or aluminum oxide (Al2O3).
Leistungsmerkmale und Vorteile
Etch Rates @ 180 °C:
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min
Aluminum oxide 120 Å/min
Silicon nitride 125 Å/min
Gallium nitride 80 Å/min
Silicon dioxide 1 Å/min
Silicon 1 Å/min
Signalwort
Danger
H-Sätze
Gefahreneinstufungen
Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Met. Corr. 1 - Skin Corr. 1B
Lagerklassenschlüssel
8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
WGK
WGK 1
Flammpunkt (°F)
Not applicable
Flammpunkt (°C)
Not applicable
Persönliche Schutzausrüstung
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
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