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Merck

205389

Sigma-Aldrich

Hexamethyldisiloxan

≥98%

Synonym(e):

HMDSO

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About This Item

Lineare Formel:
(CH3)3SiOSi(CH3)3
CAS-Nummer:
Molekulargewicht:
162.38
Beilstein:
1736258
EG-Nummer:
MDL-Nummer:
UNSPSC-Code:
12352103
PubChem Substanz-ID:
NACRES:
NA.22

Dampfdichte

>1 (vs air)

Assay

≥98%

Form

liquid

Brechungsindex

n20/D 1.377 (lit.)

bp

101 °C (lit.)
101 °C

mp (Schmelzpunkt)

−59 °C (lit.)

Dichte

0.764 g/mL at 20 °C (lit.)

SMILES String

C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C

InChI

1S/C6H18OSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h1-6H3

InChIKey

UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N

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Allgemeine Beschreibung

Hexamethyldisiloxan (HMDSO), ein lineares Polysiloxan, ist ein siliciumorganisches Reagenz, das häufig als Quelle für plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PE-CVD) zur Erzeugung dünner Schichten von Siliziumverbindungen verwendet wird. Darüber hinaus findet es als Silanersatz Anwendung in der Silizium-Halbleitertechnologie. Seine dissoziative Ionisation durch Elektronenstoß wurde mittels Fourier-Massenspektrometrie untersucht. Es wurde von der Synthese von Plasma-Polymer-Dünnschichten auf HMDSO‐Basis durch Glimmentladung (APG) berichtet. HMDSO-Kristalle bei 148K sind monoklin. Die Zugabe von HMDSO zu P4S10 verbessert dessen Wirksamkeit als Thionierungsmittel.

Anwendung

Hexamethyldisiloxan kann wie folgt verwendet werden:
  • zur Herstellung einer Gasdiffusionsschicht mit einer kontrollierten hydrophoben Silikon-Nanoschicht durch trockene atmosphärische Deposition;
  • zur Erzeugung von Siliciumdioxid-beschichteten Silber-Nanopartikeln durch Verwendung von Arginin als Katalysator und Glucose als Reduktionsmittel.

Piktogramme

FlameEnvironment

Signalwort

Danger

H-Sätze

Gefahreneinstufungen

Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Flam. Liq. 2

Lagerklassenschlüssel

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 2

Flammpunkt (°F)

21.2 °F - closed cup

Flammpunkt (°C)

-6 °C - closed cup

Persönliche Schutzausrüstung

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter


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Thin films deposition from hexamethyldisiloxane and hexamethyldisilazane under dielectric-barrier discharge (DBD) conditions.
Schmidt-Szalowski K, et al.
Plasmas and polymers, 5(3-4), 173-190 (2000)
Tae-Jun Ko et al.
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Murata H and Kumada M.
J. Chem. Phys., 21(5), 945-945 (1953)

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