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Sigma-Aldrich

Tris(trimethylsilyl) phosphite

≥95.0% (GC)

Synonyme(s) :

Trimethylsilanol phosphite, Tris(trimethylsilyloxy)phosphine

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About This Item

Formule linéaire :
[(CH3)3SiO]3P
Numéro CAS:
1795-31-9
Poids moléculaire :
298.54
Numéro Beilstein :
2043814
Numéro MDL:
MFCD00015588
Code UNSPSC :
12352100
ID de substance PubChem :
57653555
Nomenclature NACRES :
NA.22

Niveau de qualité

100

Pureté

≥95.0% (GC)

Forme

liquid

Indice de réfraction

n20/D 1.409 (lit.)

Point d'ébullition

78-81 °C/8 mmHg (lit.)

Densité

0.893 g/mL at 25 °C (lit.)

Chaîne SMILES 

C[Si](C)(C)OP(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C

InChI

1S/C9H27O3PSi3/c1-14(2,3)10-13(11-15(4,5)6)12-16(7,8)9/h1-9H3

Clé InChI

VMZOBROUFBEGAR-UHFFFAOYSA-N

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Description générale

Tris(trimethylsilyl)phosphate is tris(trimethylsilyl)ester of phosphoric acid. It is an important raw material and intermediate inorganic synthesis. It is used in the preparation of bis(trimethylsilyl)phosphonate esters by the Arbuzov reaction with halogen-containing compounds.

Application

Tris(trimethylsilyl) phosphite is used as a:
  • Film-forming additive to enhance the electrochemical performance of the NMC811[LiNi0.8Mn0.1Co0.1O2]/Si-Grcell.

Autres remarques

Reagent used for the mild preparation of bis(TMS) phosphonates (Arbuzow reaction); Review

Pictogrammes

Exclamation mark
GHS07

Mention d'avertissement

Warning

Mentions de danger

H315,H319

Classification des risques

Eye Irrit. 2 - Skin Irrit. 2

Code de la classe de stockage

10 - Combustible liquids

Classe de danger pour l'eau (WGK)

WGK 3

Point d'éclair (°F)

235.4 °F - closed cup

Point d'éclair (°C)

113 °C - closed cup

Équipement de protection individuelle

Eyeshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter

Certificats d'analyse (COA)

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Tris (trimethylsilyl) Phosphite
Bittman R
Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis, Second Edition (2001)
Understanding the Roles of Tris (trimethylsilyl) Phosphite (TMSPi) in LiNi0. 8Mn0. 1Co0. 1O2 (NMC811)/Silicon--Graphite (Si--Gr) Lithium-Ion Batteries
Liu H, et al.
Advanced Materials Interfaces, 7(15), 2000277-2000277 (2020)
M. Sekine et al.
The Journal of Organic Chemistry, 46, 2097-2097 (1981)
L.E. Dreef et al.
Tetrahedron Letters, 29, 1199-1199 (1988)
M. Sekine et al.
Journal of the Chemical Society. Chemical Communications, 285-285 (1978)
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