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Precursores de deposição em fase de vapor e soluções

Deposição de soluções e deposição em fase de vapor são duas vias de síntese usadas para a formação de revestimentos e filmes finos de precisão e avançados.

Deposição de soluções e deposição em fase de vapor são duas vias de síntese usadas para a formação de revestimentos e filmes finos de precisão e avançados. A deposição de solução, também chamada de processamento sol-gel, pode ser utilizada para preparar uma ampla gama de materiais compósitos híbridos e inorgânicos a partir de uma solução de precursores. Com a geração de suspensões coloidais conhecidas como “sóis”, tais suspensões podem ser convertidas em um gel e, posteriormente, em um sólido. A deposição em fase de vapor abrange um conjunto de técnicas pelas quais precursores ou materiais-alvo são convertidos e empregados na fase gasosa para formar filmes projetados em substratos. Nosso compêndio de produtos para técnicas de deposição permite a adequação precisa do filme fino e das propriedade de revestimento. Selecione dentre nossa grande variedade de precursores de deposição de filme de qualidade e confiáveis de acordo com a sua aplicação e o método escolhido.

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Precursores de deposição de soluções

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Precursores de deposição química em fase de vapor (CVD)/precursores de deposição de camadas atômicas (ALD)

Fornecemos precursores organometálicos voláteis de alta qualidade, precursores metálicos e precursores metalorgânicos para CVD/ALD. Para conveniência e segurança, esses precursores são pré-embalados em cilindros de aço para uso com diversos sistemas de deposição.

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