759562
Tris(dimethylamino)silane
packaged for use in deposition systems
Sinónimos:
Tris(dimethylamino)silane, (Me2N)3SiH, N,N,N′,N′,N′′, N′′-Hexamethylsilanetriamine, Tris(dimethylamido)silane, N,N,N′,N′,N′′,N′′-Hexamethylsilanetriamine, TDMAS
About This Item
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assay
≥99.9% (GC)
form
liquid
bp
142 °C (lit.)
mp
−90 °C (lit.)
density
0.838 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES string
CN(C)[SiH](N(C)C)N(C)C
InChI
1S/C6H19N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h10H,1-6H3
InChI key
TWVSWDVJBJKDAA-UHFFFAOYSA-N
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General description
Application
- As a silicon source for deposition of aluminum silicate on TiO2 anodes for dye-sensitized solar cells vis atomic layer deposition method.
- As a precursor to fabricate functionalized Si reinforced separators for Li-ion batteries.
signalword
Danger
Hazard Classifications
Acute Tox. 3 Dermal - Acute Tox. 3 Inhalation - Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 2 - Skin Corr. 1B - Water-react 2
supp_hazards
Storage Class
4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water
wgk_germany
WGK 3
flash_point_f
16.0 - 32.0 °F - closed cup
flash_point_c
-8.89 - 0.00 °C - closed cup
Certificados de análisis (COA)
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Artículos
Nanocomposite Coatings with Tunable Properties Prepared by Atomic Layer Deposition
Spin-based electronic (spintronic) devices offer significant improvement to the limits of conventional charge-based memory and logic devices which suffer from high power usage, leakage current, performance saturation, and device complexity.
The properties of many devices are limited by the intrinsic properties of the materials that compose them.
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