759414
Ortosilicato de tetraetilo
packaged for use in deposition systems
Sinónimos:
TEOS, Tetraetoxisilano, Éster tetraetílico del ácido ortosilícico
About This Item
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vapor density
7.2 (vs air)
Quality Level
vapor pressure
<1 mmHg ( 20 °C)
assay
≥99.5% (GC)
form
liquid
refractive index
n20/D 1.382 (lit.)
bp
168 °C (lit.)
density
0.933 g/mL at 20 °C (lit.)
SMILES string
CCO[Si](OCC)(OCC)OCC
InChI
1S/C8H20O4Si/c1-5-9-13(10-6-2,11-7-3)12-8-4/h5-8H2,1-4H3
InChI key
BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N
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Application
- Si oxide
- Oxycarbide
- Doped silicate
- Silanol
- Siloxane polymer
- Organosilicon thin films
The films can be deposited at low temperatues (<250 °C). TEOS is also used to deposit mesoporous and nanoporous thin films of silica. These porous films can be doped during deposition to further enhance their properties.
signalword
Warning
hcodes
Hazard Classifications
Acute Tox. 4 Inhalation - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - STOT SE 3
target_organs
Respiratory system
Storage Class
3 - Flammable liquids
wgk_germany
WGK 1
flash_point_f
113.0 °F - closed cup
flash_point_c
45 °C - closed cup
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