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品質等級
化驗
99.99% trace metals basis (purity excludes zirconium)
形狀
crystalline
雜質
≤200.0 ppm Trace Metal Analysis
SMILES 字串
O.Cl[Hf](Cl)=O
InChI
1S/2ClH.Hf.H2O.O/h2*1H;;1H2;/q;;+2;;/p-2
InChI 密鑰
ONMNZQKEFYFCCQ-UHFFFAOYSA-L
一般說明
水合度 6-8
應用
HfGeO4 和 HfGeO4:Ti(都可用于 X 射线荧光粉)的原料。
訊號詞
Danger
危險聲明
危險分類
Skin Corr. 1B
儲存類別代碼
8B - Non-combustible corrosive hazardous materials
水污染物質分類(WGK)
WGK 3
閃點(°F)
Not applicable
閃點(°C)
Not applicable
個人防護裝備
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
Inorganic chemistry, 37(6), 1352-1357 (2001-10-24)
The gel chemistry of germanium is explored through the formation and composition of a hydrous metal oxide precursor gel used in the preparation of the HfGeO(4) and HfGeO(4):Ti X-ray phosphors. The enhanced solubility of hexagonal GeO(2) in dilute ammoniacal solutions
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