900755

SLAP TA

95%

• Synonim(y): 3-(((Trimethylsilyl)methyl)thio)propan-1-amine
• Wzór empiryczny (zapis Hilla): C₇H₁₉NSSi
• Numer CAS: 2093935-86-3
• Masa cząsteczkowa: 177.38
• Kod UNSPSC: 12352103
• NACRES: NA.22

Właściwości

• Poziom jakości: 100
• Próba: 95%
• Postać: liquid
• gęstość: 0.90452
• temp. przechowywania: 2-8°C

Opis

Zastosowanie

When used with aliphatic or aromatic aldehydes, this silicon amine protocol SLAP reagent enables the photomediated synthesis of thiomorpholines and thiazepanes. For photocatalytic cross-coupling with this SLAP Reagent, Ir[(ppy)₂dtbbpy]PF₆ (747769) is used with a recommended starting combination of Lewis acids Bi(OTf)₃ (633305) and Cu(OTf)₂ (283673) prior to subsequent substrate-specific optimization. This product was introduced in collaboration with the Bode Research Group and provides a tin-free alternative to SnAP (tin amine protocol) reagents and is well-suited for scale-up reactions.

Inne uwagi

• Technology Spotlight: SLAP Reagents for Piperazine Synthesis
• Silicon Amine Reagents for the Photocatalytic Synthesis of Piperazines from Aldehydes and Ketones
• Lewis Acid Induced Toggle from Ir(II) to Ir(IV) Pathways in Photocatalytic Reactions: Synthesis of Thiomorpholines and Thiazepanes from Aldehydes and SLAP Reagents.
• Continuous Flow Synthesis of Morpholines and Oxazepanes with Silicon Amine Protocol (SLAP) Reagents and Lewis Acid Facilitated Photoredox Catalysis

This page may contain text that has been machine translated.

Informacja o środkach bezpieczeństwa

• Piktogramy: GHS02
• Hasło ostrzegawcze: Warning
• Zwroty wskazujące rodzaj zagrożenia: H226
• Zwroty wskazujące środki ostrożności: P210 - P370 + P378
• Klasyfikacja zagrożeń: Flam. Liq. 3
• Kod klasy składowania: 3 - Flammable liquids
• Klasa zagrożenia wodnego (WGK): WGK 3
• Temperatura zapłonu (°F): 75.0 °F
• Temperatura zapłonu (°C): 23.89 °C