Direkt zum Inhalt
Merck

274208

Sigma-Aldrich

Dichlordiethylsilan

97%

Synonym(e):

Diethyldichlorosilane, Diethyldichlorosilicon

Anmeldenzur Ansicht organisationsspezifischer und vertraglich vereinbarter Preise


About This Item

Lineare Formel:
(C2H5)2SiCl2
CAS-Nummer:
Molekulargewicht:
157.11
Beilstein:
605313
EG-Nummer:
MDL-Nummer:
UNSPSC-Code:
12352001
PubChem Substanz-ID:
NACRES:
NA.22

Assay

97%

Form

liquid

Brechungsindex

n20/D 1.43 (lit.)

bp

125-131 °C (lit.)

Dichte

1.05 g/mL at 25 °C (lit.)

Lagertemp.

2-8°C

SMILES String

CC[Si](Cl)(Cl)CC

InChI

1S/C4H10Cl2Si/c1-3-7(5,6)4-2/h3-4H2,1-2H3

InChIKey

BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N

Suchen Sie nach ähnlichen Produkten? Aufrufen Leitfaden zum Produktvergleich

Signalwort

Danger

Gefahreneinstufungen

Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B - STOT SE 3

Zielorgane

Respiratory system

Zusätzliche Gefahrenhinweise

Lagerklassenschlüssel

3 - Flammable liquids

WGK

WGK 1

Flammpunkt (°F)

79.0 °F

Flammpunkt (°C)

26.1 °C

Persönliche Schutzausrüstung

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter


Analysenzertifikate (COA)

Suchen Sie nach Analysenzertifikate (COA), indem Sie die Lot-/Chargennummer des Produkts eingeben. Lot- und Chargennummern sind auf dem Produktetikett hinter den Wörtern ‘Lot’ oder ‘Batch’ (Lot oder Charge) zu finden.

Besitzen Sie dieses Produkt bereits?

In der Dokumentenbibliothek finden Sie die Dokumentation zu den Produkten, die Sie kürzlich erworben haben.

Die Dokumentenbibliothek aufrufen

Kunden haben sich ebenfalls angesehen

Peter Bieling et al.
The EMBO journal, 37(1), 102-121 (2017-11-17)
WASP-family proteins are known to promote assembly of branched actin networks by stimulating the filament-nucleating activity of the Arp2/3 complex. Here, we show that WASP-family proteins also function as polymerases that accelerate elongation of uncapped actin filaments. When clustered on
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

Unser Team von Wissenschaftlern verfügt über Erfahrung in allen Forschungsbereichen einschließlich Life Science, Materialwissenschaften, chemischer Synthese, Chromatographie, Analytik und vielen mehr..

Setzen Sie sich mit dem technischen Dienst in Verbindung.