Direkt zum Inhalt
Merck
HomeProdukteWerkstoffwissenschaftEnergiematerialienPräkursoren für die Lösungs- & Dampfabscheidung

Präkursoren für die Lösungs- & Dampfabscheidung

Die Lösungs- und Dampfabscheidung sind zwei Synthesewege, die für die Herstellung von hochentwickelten Präzisionsdünnfilmen und Beschichtungen eingesetzt werden.

Die Lösungs- und Dampfabscheidung sind zwei Synthesewege, die für die Herstellung von hochentwickelten Präzisionsdünnfilmen und Beschichtungen eingesetzt werden. Die Lösungsabscheidung, auch bekannt als Sol-Gel-Verfahren, kann zur Herstellung einer Vielzahl von anorganischen und hybriden Verbundwerkstoffen aus einer Lösung von Präkursoren verwendet werden. Durch die Erzeugung von kolloidalen Suspensionen, die als "Sols" bezeichnet werden, können diese in ein Gel und anschließend in einen Feststoff umgewandelt werden. Die Dampfabscheidung umfasst eine Vielzahl von Techniken, bei denen Präkursoren oder Zielmaterialien in der Gasphase umgewandelt und verwendet werden, um technische Filme auf Substraten zu bilden. Unsere Produktpalette für Abscheidetechniken ermöglicht eine präzise Anpassung der Eigenschaften von Dünnfilmen und Beschichtungen. Wählen Sie das passende Produkt aus unserem breiten Angebot an zuverlässigen und qualitativ hochwertigen Präkursoren für die Filmabscheidung in Übereinstimmung mit der von Ihnen gewählten Methode und Anwendung.




Präkursoren für die Lösungsabscheidung

Wir bieten eine breite Palette von speziellen Präkursoren für die Lösungsabscheidung mit 55 verschiedenen Basismetallen in Acetat-, Acetylacetonat-, tert-Butoxid-, Isopropoxid-, Phenoxid-, Ethoxid-, Tri-sec-Butoxid-, Methoxid-, 2-Ethylhexanoat- und anderen Funktionalitäten. Diese Produkte werden in verschiedenen Reinheitsgraden von 90 % bis 99,999 %, in verschiedenen Konzentrationen in ausgewählten Lösungsmitteln und in spezifischen hydratisierten Formen angeboten, um Ihre eigene dedizierte Chemie zu ermöglichen.

Präkursoren für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) / Präkursoren für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Wir liefern hochwertige flüchtige metallorganische Präkursoren, Metallpräkursoren und metallorganische Präkursoren für CVD/ALD. Aus Komfort- und Sicherheitsgründen sind diese Präkursoren in Stahlzylindern für die Verwendung in einer Reihe von Abscheidungssystemen abgepackt.

Materialien für die physikalische Gasphasenabscheidung

Bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) wird verdampftes Material aus einem festen Ausgangsmaterial verwendet, um dünne Filme auf ein Substrat aufzubringen. Wir bieten hochreine Sputtertargets, Pellets, Metallfolien und Verdampfungskerne für verschiedene PVD-Anwendungen an, darunter mikroelektronische Geräte, Batterieelektroden, Diffusionsbarrieren und optische Beschichtungen.



Melden Sie sich an, um fortzufahren.

Um weiterzulesen, melden Sie sich bitte an oder erstellen ein Konto.

Sie haben kein Konto?