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Merck
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274208

Sigma-Aldrich

Dichlorodiethylsilane

97%

Sinônimo(s):

Diethyldichlorosilane, Diethyldichlorosilicon

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About This Item

Fórmula linear:
(C2H5)2SiCl2
Número CAS:
1719-53-5
Peso molecular:
157.11
Beilstein:
605313
Número CE:
217-005-0
Número MDL:
MFCD00000493
Código UNSPSC:
12352001
ID de substância PubChem:
24856572
NACRES:
NA.22

Ensaio

97%

forma

liquid

índice de refração

n20/D 1.43 (lit.)

pb

125-131 °C (lit.)

densidade

1.05 g/mL at 25 °C (lit.)

temperatura de armazenamento

2-8°C

cadeia de caracteres SMILES

CC[Si](Cl)(Cl)CC

InChI

1S/C4H10Cl2Si/c1-3-7(5,6)4-2/h3-4H2,1-2H3

chave InChI

BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N

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Palavra indicadora

Danger

Frases de perigo

H226,H302,H314,H335

Classificações de perigo

Acute Tox. 4 Oral - Eye Dam. 1 - Flam. Liq. 3 - Skin Corr. 1B - STOT SE 3

Órgãos-alvo

Respiratory system

Perigos de suplementos

EUH014

Código de classe de armazenamento

3 - Flammable liquids

Classe de risco de água (WGK)

WGK 1

Ponto de fulgor (°F)

79.0 °F

Ponto de fulgor (°C)

26.1 °C

Equipamento de proteção individual

Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter

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Peter Bieling et al.
The EMBO journal, 37(1), 102-121 (2017-11-17)
WASP-family proteins are known to promote assembly of branched actin networks by stimulating the filament-nucleating activity of the Arp2/3 complex. Here, we show that WASP-family proteins also function as polymerases that accelerate elongation of uncapped actin filaments. When clustered on
David Gräfe et al.
Nature communications, 9(1), 2788-2788 (2018-07-19)
Existing photoresists for 3D laser lithography that can be removed after development in a subtractive manner typically suffer from harsh cleavage conditions. Here, we report chemoselectively cleavable photoresists for 3D laser lithography based on silane crosslinkers, allowing the targeted degradation

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